西安电子科技大学：
     本项目依托西安电子科技大学宽带隙半导体技术国家重点学科实验室，拥有自主研发的4英寸大面积石墨烯CVD外延生长设备，高真空脉冲激光沉积系统，半导体MOCVD设备研制技术平台，大面积超净工作间（1000平米千级超净实验室）；具有完整的石墨烯材料表征测试技术平台，包括Horiba LabRAM HR800高分辨显微拉曼测试仪，Agilent 5500原子力显微镜，Bruker D8 Discover X射线衍射仪，Lakeshore8400接触式Hall效应测试仪，Leighiton 1510C非接触方阻测试仪，Leighiton 1600非接触霍尔效应测试仪以及PE950 UV-vis-IR分光光度计、FTIR傅里叶红外光谱仪，能够很好地满足石墨烯材料表征分析的需要。拥有自主研发的国际先进、国内领先的化合物半导体工艺线，包括Nikon 17光刻机、VPC-1300 四靶电子束蒸发台、ICP-98C 型高密度等离子体刻蚀机、HP4156B 精密半导体参数分析仪和Agilent 1500A 半导体参数分析仪等，可以完成石墨烯器件加工和特性分析；还拥有MedeA第一性原理仿真软件和平台。

　　图10 石墨烯生长化学气相淀积（CVD）设备

　　6英寸石墨烯MOCVD外延生长系统

　　4英寸双管式SiC衬底高温热解石墨烯生长系统

　　图11 扫描电子显微镜（SEM）和透射电子显微镜（TEM）

　　Horiba HR-800共聚焦显微拉曼光谱分析仪

　　Lakeshore 7900A高温变温霍尔效应测试系统

　　图12 普林斯顿电化学工作站

 西安交通大学：
　　实验室拥有自行研发的200mm行程10nm定位精度的6分步式压印原型机(如图13左)及配套的光固化阻蚀胶，以及幅宽大于300mm的逆向辊压印装置(如图13右)，能够在柔性材料上进行图型连续辊压。图13为自制的微米级三维微结构压印模具试验原型，图13为基于压印技术制造的各种腔体微结构。图14大面积石墨烯/碳纳米墙PECVD生长设备。配套整体1000级、局部100级超净实验室120m2，电子束直写系统(如图15)、超快激光加工系统(如图16)、等离子刻蚀系统、匀胶系统、微观形貌检测系统、光电测试系统等一系列专有设备；建设基础为机械制造系统工程国家重点实验室。

　　图13 基于压印技术制造的各种微结构.

　　图14 大面积石墨烯PECVD生长设备.

　　图15 CRESTEC CABL-9300CSX型电子束直写系统.

　　图16 Cyber-Laser超快激光加工系统

　　西北工业大学：
　　独立拥有实验室800多平方米，教师与学生办公室380平方米；拥有纳米材料制备、表征和测试设备总计3000余万元，其中包括石墨烯连续沉积系统、锂离子电池与超级电容器中试线、场发射电镜、拉曼光谱、原子力显微镜、红外光谱仪，热重分析仪，气相色谱，荧光光谱仪，全自动比表面积与孔隙度分析仪等。